Intel se focaliserait maintenant sur la gravure en 7nm
Prévue pour une production en masse en 2016, la fabrication de puces gravées en 10nm chez Intel a subi un retard considérable. Aujourd'hui seules quelques rares puces ont droit à cette finesse, le reste étant encore gravé dans un procédé en 14nm – certes amélioré.
Pendant ce temps la concurrence a non seulement refait son retard mais réussi à prendre de l'avance.
Intel a probablement été trop ambitieux avec son procédé 10nm, qui se voulait à la pointe de ce que l'on pouvait proposer en termes de consommation et de densité de puces. La complexité de sa mise en oeuvre a rendu la tâche trop complexe.
Maintenant, il semble que ce 10nm pourrait n'avoir qu'une durée de vie très courte. En effet, la société espère pouvoir proposer très rapidement des puces en 7nm. Il faut dire que ce nouveau procédé de gravure n'a pas été mis au point dans la continuité de l'autre mais parallèlement, avec des équipes différentes qui semblent avoir rencontré plus de succès ou fait preuve de plus de pragmatisme.
Le prochain défi sera de réussir à obtenir de chez ASML suffisamment de machines capables de produire des processeurs en utilisant des ultraviolets profonds.